专利名称：纱线检测装置的测量槽缝的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及ー种具有槽缝的測量装置，用于检测移动的线状试样的各种性倉^:。
背景技术：
目前，对线状试样(如纱)的性能进行测量时，经常用到槽缝式的检测结构。例如利用电容原理的測量结构中，两个电极安装在塑料块的一个槽内共同组成测量电容器，其測量场是横越过槽，该槽的表面上有ー层薄薄的涂层，该涂层材料的电导率小于电极的电导率。纱通过接触移动产生的局部静电荷分布于涂层上并且耗散。然而，这种測量装置存在一定问题，如測量涂层的导电率比较困难，因为必须防止涂层产生电极表面的膨胀，以及涂层本身会磨损,使得槽缝的电性能产生变化等。 除此之外，利用光学原理测量纱的装置中也同样构成ー个测量槽缝形式，光学装置的射束路径通过该槽延伸进入槽的侧壁，这种测量槽往往会受到被测物的污染，从而影响其光学测量的效果。当纱移动通过测量槽缝时，可以起到一定程度的清洁作用，为了能确实起到自行清洁的作用，測量槽缝的尺寸需要与被测物相匹配。与此相对，測量槽缝较窄时，会造成侧面的或者内部的安装元件产生不允许的磨损。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供ー种纱线检测装置的測量槽缝，能够有效改善测量槽的结构及尺寸。为解决上述技术问题，本实用新型所述的纱线检测装置的測量槽缝，其两侧壁装有测量元件，待测纱线从测量槽缝的测量元件之间穿过，所述测量槽缝中施加有一耐磨材料制成的涂层，所述涂层至少覆盖在測量元件上。优选的，所述涂层覆盖在测量槽缝的两个侧壁上。优选的，所述涂层是由一种纳米合成物构成。优选的，所述涂层的厚度为20 30nm。优选的，所述带涂层的测量槽缝的宽度为线状试样直径的4 10倍。在上述结构中，所述带涂层的测量槽缝包括出入口部分和測量部分，所述出入口部分的截面比測量部分的截面窄，所述测量部分具有三维立体的弧形側面。本实用新型中的耐磨涂层对于移动纱的磨损不敏感，可以涂覆在測量槽缝侧壁内的电极、透镜或光学装置的窗或其中的一部分，或者覆盖在槽缝的其余位置，能够有效提高測量槽缝的使用寿命。此外，测量�。垂庋低车纳涫肪痘虻缛菹低车牡绯〉纳煺箍占淠芄豢s�。环矫婵梢酝üs小槽缝宽度，另ー方面可以通过在測量槽缝上界定的电极或光学元件较小的表面积实现，达到更好的测量效果和自行清洁的功能，并且还可以将光学测量结构和电容测量结构共同设置在ー个测量槽缝中。以下结合附图
与具体实施方式
对本实用新型作进ー步详细的说明图I是ー个测量槽缝的示意图；图2是一台带测量槽缝的測量装置部分示意图；图3是测量槽缝中测量部分的示意图。其中附图标记说明如下I測量装置的主要部分2測量槽缝3纱线4、5侧壁6，6’、7，7’测量元件8涂层9底部B槽缝的宽度10测量槽11、11’出入口部分12测量部分13线状试样14、15两端16中间区域
具体实施方式
如图I所示，纱线检测装置的測量槽缝的主要部分1，具有ー个使纱线3，例如粗纱或细纱,移动通过的测量槽缝2。测量元件6、7固定在测量槽缝2的侧壁4上,或装入侧壁4中。元件6、7可以是ー种电容式測量装置的电极，也可以是窗、三棱镜的面、透镜，还可以是光学測量装置的其它组成部分，与其相对应的元件6’、7’位于相对的侧壁5上。測量元件装于测量装置中以测量纱的性能，如质量、直径、顔色或异纤维含量等等。所述测量槽缝2至少部分施加ー涂层8，涂层8可以完全或者部分覆盖侧壁4、5，也可以只将元件6、6’，7、7’覆盖，还可以将测量槽缝2的底部9覆盖。涂层8由一种耐磨材料制成，优选的是透明的用于光学測量装置或是具有可传导性的用于电容的測量装置。涂层8的性能，优选的类似于玻璃，即透明、坚硬和平滑，这样纱线3与其接触时阻カ较小。涂层8通过无机材料合成获得，是ー种纳米复合物，将测量装置的主要部分I浸在涂层8的材料中，或者把这种涂层材料喷涂上去即可。涂层8也可由溶胶组成，它可以与测量槽缝2的表面材料产生化学結合。涂层8的厚度保持在20 30nm，可以使测量槽缝2的宽度B为纱线直径的4 10倍，极大地縮小了槽缝的宽度，而且还可以产生ー种新的槽缝形式。如图2所示測量装置的ー个部分，具有一个带有涂层的测量槽10，该测量槽10分为ー个出入口部分11、11’和一个测量部分12，线状试样13在测定时位于测量部分12中。图2中的出入口部分11’区别现有的结构，与測量部分12不安置在同一轴线上，而是设置在边侧。出入口部分11、11’狭窄的截面为測量部分12遮蔽了外来的干扰光，提高了光学測量系统的测量精度。借助于涂层，測量部分12可以制成三维立体的弧形侧面17，如图3所示，该弧形侧面17可以起到引导纱线的作用。图3表示图2中沿箭头所示的测量部分12的切割面侧视图，包括两端14、15和中间区域16，且中间区域16的截面大于两端14、15的截面。測量部分12的底部与试样不平行，并且不是平面。在图3所示结构中，槽中央位置的底部要比两端14、15的底部略低，且两端14、15施以涂层，以达到引导试样的功能。除此之外，中间区域16也可以施加涂层，实现更好的保护。測量部分12还可以为其它形状，如果测量槽缝的底部是连续的，则槽内的沉积物可以连续被清除，或者被线状试样带走。本实用新型中的耐磨涂层对于移动纱的磨损不敏感，可以涂覆在測量槽缝侧壁内的电极、透镜或光学装置的窗或其中的一部分，或者覆盖在槽缝的其余位置，能够有效提高測量槽缝的使用寿命。此外，测量�。垂庋低车纳涫肪痘虻缛菹低车牡绯〉纳煺箍占淠芄豢s�。环矫婵梢酝üs小槽缝宽度，另ー方面可以通过在測量槽缝上界定的电极或光学元件较小的表面积实现，达到更好的测量效果和自行清洁的功能，并且还可以将光学测量结构和电容测量结构共同设置在ー个测量槽缝中。本实用新型并不限于上面所讨论的实施例。本领域普通技术人员基于本实用新型 启示的显而易见的变换或替代也应当被认为落入本实用新型的保护范围。
权利要求1.ー种纱线检测装置的測量槽缝，所述测量槽缝的两侧壁装有測量元件，待测纱线从测量槽缝的测量元件之间穿过，其特征在于所述测量槽缝中施加有ー耐磨材料制成的涂层，所述涂层至少覆盖在測量元件上。
2.根据权利要求I所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述涂层覆盖在测量槽缝的两个侧壁上。
3.根据权利要求I或2所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述涂层由一种纳米合成物构成。
4.根据权利要求I或2所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述涂层的厚度为20 30nm。
5.根据权利要求3所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述涂层的厚度为20 30nm。
6.根据权利要求I或2所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述带涂层的测量槽缝的宽度为纱线直径的4 10倍。
7.根据权利要求3所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述带涂层的测量槽缝的宽度为纱线直径的4 10倍。
8.根据权利要求4所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述带涂层的测量槽缝的宽度为纱线直径的4 10倍。
9.根据权利要求5所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述带涂层的测量槽缝的宽度为纱线直径的4 10倍。
10.根据权利要求I所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述带涂层的测量槽缝包括出入ロ部分和測量部分。
11.根据权利要求10所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述出入口部分的截面比測量部分的截面窄。
12.根据权利要求10所述的纱线检测装置的測量槽缝，其特征在于所述测量部分具有三维立体的弧形側面。
专利摘要本实用新型公开了一种纱线检测装置的测量槽缝，所述测量槽缝的两侧壁装有测量元件，待测纱线从测量槽缝的测量元件之间穿过，所述测量槽缝中施加有一耐磨材料制成的涂层，所述涂层至少覆盖在测量元件上。本实用新型的涂层使得测量槽缝的尺寸可以根据实际需要设定，能够使槽缝明显变窄，而且有效延长了测量槽缝的使用寿命。
文档编号G01N21/15GK202453318SQ20112057810
公开日2012年9月26日 申请日期2011年12月28日 优先权日2011年12月28日
发明者拉斐尔·斯托兹 申请人:乌斯特技术股份公司
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
