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专利名称：小型碎样装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种粉碎样品的装置，具体的说是用于粉碎少量陶瓷、玻璃、 晶体或矿石等材料的装置。
背景技术：
在材料研究领域，经常涉及到材料的物相、结构和成分的分析。XRD (X射线 衍射)、SEM (扫描电子显微镜)IR (红外光谱)和TEM (透射电子显微镜)等都 是材料分析的常用手段，这些分析手段通常要求供试的样品为粉体。材料的化学 成分分析一般也需要供试的样品为粒径小的粉体。在粉碎少量仅供检测的样品 时，通常所用的粉碎装置气流磨、砂磨机、搅拌磨、振动磨、高速行星式辊轮磨 机等均不能使用。另外，由于一些陶瓷、玻璃、晶体、矿石等材料价格昂贵，制 备出的样品少，故不可能有大量的样品用来粉碎，仅供检测的少量样品远不够在 这些大型的粉碎装置中消耗损失，而且还有可能污染样品，引入一些杂质(主要 为Fe等元素)，不利于检测。所以在粉碎少量样品时，只能用研钵来粉碎样品。
陶瓷、玻璃、晶体、矿石等材料硬度都很大， 一般都用玛瑙研钵来粉碎样品。 但在碎样时，必须将样品击碎至颗粒状，然后研磨。在击碎过程中，大部分样品 都溅出研钵，浪费了样品，如果重新回收溅出的样品，又容易造成污染，影响检 测结果。 发明内容
本实用新型目的在于克服上述现有技术不足而提供一种小型碎样装置，该装 置能够粉碎少量样品，且避免粉碎的样品溅出，并能有效地防止污染样品。
实现本实用新型目的采用的技术方案是 一种小型碎样装置至少包括研钵和 杵，研钵外罩有遮挡盖，遮挡盖顶部设有圆孔，圆孔直径大于杵的直径。
所述遮挡盖上部分呈半球形，遮挡盖下部分内设有环形挡片，环形档片外环 边固定于遮挡盖内侧，环形档片内环边搁置于研钵上，可以起密封作用，避免粉 碎的样品泄出。其中环形挡片的中心轴与遮挡盖中心轴重合。研钵的直径大于环 形挡片的内环直径，小于环形挡片的外环直径。
或者研钵上直接盖有遮挡盖，且两者的结合面呈台阶状。所用研钵的内凹面呈半球面。上述所用杵的下部直径小于遮挡盖顶部圆孔直径，可以方便地从遮挡盖顶部 圆孔进入，从而方便地粉碎研钵内的样品。使用本实用新型时，将样品置于研钵上，合上遮挡盖，将杵通过遮挡盖顶部 圆孔把样品击碎至颗粒状，然后移去遮挡盖，用杵将颗粒状的样品研磨至粉末状。本实用新型的有益效果是(1)可以粉碎少量的样品，降低了粉碎过程中样品的损失；(2)避免样品溅出，节约了样品；(3)有效地防止在粉碎过程中污染样品，降低了引入杂质元素的可能。


以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步的说明。 图1为本实用新型第一个实施例的剖面示意图。图2为本实用新型第二个实施例的剖面示意图。图中，l.杵，2.遮挡盖顶部圆孔，3.遮挡盖上部分，4.遮挡盖，5.遮挡盖下 部分，6.环形挡片，7.研钵，8.遮挡盖顶部圆孔，9.遮挡盖，IO.遮挡盖与研钵 的结合面，ll.研钵。
具体实施方式
实施例1如图1所示的小型碎样装置，包括杵1、遮挡盖4和研钵7。遮挡盖4的材 质可为玻璃、塑料等，研钵2的材质可为玛瑙、陶瓷、硬质金属等。遮挡盖4 的顶部设有圆孔2，圆孔2直径大于杵1的直径。遮挡盖上部分3呈半球形，遮 挡盖下部分5内设有环形挡片6，环形档片6外环边固定于遮挡盖下部分5的内 侧，环形档片内环边搁置于研钵上7，防止粉碎的样品泄出。使用本实用新型时， 将样品置于研钵7上，合上遮挡盖4，将杵1通过遮挡盖顶部圆孔2把样品击碎 至颗粒状，在粉碎样品的过程中，环形档片6可防止样品溅出，节约了样品。然 后移去遮挡盖4，用杵将颗粒状的样品研磨至粉末状。实施例2如图2所示的小型碎样装置，包括杵l、遮挡盖9和研钵11，研钵ll的内凹 面呈半球面。遮挡盖8的材质可为玻璃、塑料等，研钵ll的材质可为玛瑙、陶 瓷、硬质金属等。遮挡盖8的顶部设有圆孔8，圆孔8直径大于杵1的直径。研钵11上直接盖有遮挡盖9，且遮挡盖9与研钵11的结合面10结合面呈台阶状。 使用本实用新型时，将样品置于研钵7上，合上遮挡盖4，将杵l通过遮挡盖顶 部圆孔2把样品击碎至颗粒状后，在粉碎样品的过程中遮挡盖9直接防止样品溅 出。移去遮挡盖9，用杵l将颗粒状的样品研磨至粉末状。
权利要求1. 一种小型碎样装置，至少包括研钵和杵，其特征在于研钵外罩有遮挡盖，遮 挡盖顶部设有圆孔，圆孔直径大于杵的直径。
2. 根据权利要求1所述小型碎样装置，其特征在于遮挡盖上部分呈半球形，遮 挡盖下部分内设有环形挡片，环形档片外环边固定于遮挡盖内侧，环形档片内环 边搁置于研钵上。
3. 根据权利要求2所述小型碎样装置，其特征在于环形挡片的中心轴与遮挡盖 中心轴重合。
4. 根据权利要求2所述小型碎样装置，其特征在于研钵的直径大于环形挡片的 内环直径，小于环形挡片的外环直径。
5. 根据权利要求1所述小型碎样装置，其特征在于研钵上直接盖有遮挡盖，且 两者的结合面呈台阶状。
6. 根据权利要求5所述小型碎样装置，其特征在于研钵的内凹面呈半球面。
专利摘要本实用新型提供的一种小型碎样装置至少包括研钵和杵，研钵外罩有遮挡盖，遮挡盖顶部设有圆孔，圆孔直径大于杵的直径。遮挡盖上部分呈半球形，遮挡盖下部分内设有环形挡片，环形挡片外环边固定于遮挡盖内侧，环形挡片内环边搁置于研钵上，研钵的直径大于环形挡片的内环直径，小于环形挡片的外环直径；或者在内凹面呈半球面的研钵上直接盖有遮挡盖，两者的结合面呈台阶状。该装置能够粉碎少量样品，且避免粉碎的样品溅出，并能有效地防止污染样品，提高检测精度。
文档编号G01N1/28GK201156025SQ20082006560
公开日2008年11月26日 申请日期2008年2月2日 优先权日2008年2月2日
发明者珍 李, 飞 李, 金成国, 鲁立强 申请人:中国地质大学(武汉)