专利名称：用于使微量滴定板对准中心的设备的制作方法
技术领域：
本申请涉及包括装配有光元件阵列的微量滴定板支座或试管支承板类型的吸移辅助设备领域，当液体被配制或从该板中的井或试管抽出时，这些光元件能够被接通和断开。
背景技术：
包括微量滴定板支座或试管支承板的吸移辅助设备是熟知的，它包括诸如发光二极管的光元件阵列，以及用于控制这些光元件的装置，这些装置例如由控制键和/或按钮形成。这些设备通常被设计成保持有标准尺寸的、包括井的阵列的微量滴定板，井的数量一般为每行6个井和每列4个井的倍数。因此，在示例性实施例中，有MX16(384)个井的板和有12X8(96)个井的板被使用。通常使用的微量滴定板上井的布局，是作为这些板中井数量的函数而变化的。相对于板边缘的井的阵列，是从一种板到另一种板偏移的，取决于每种板中井的数量。井断面的直径也能够从一种类型的板到另一种类型的板变化。因此，包括相对少数量井的板，能够包含有比包括更多数量井的板中的井更大横截面的井。为了满意地操作，所描述类型的吸移辅助设备有光元件或光元件的排列，该光元件排列面对它支承的微量滴定板中的每一个井。因此，如果组件适配器要被安装到已知吸移辅助设备上的话，微量滴定板是与组件适配器关联的。更准确地说，每一类型的微量滴定板都以板中井的排列为特征，并一般供包括如下特点的适配器使用-下部面，设有被设计成与对准中心装置相配合的装置，该对准中心装置被支承在吸移辅助设备支座上；-上部面，包括板对准中心装置，该板对准中心装置被布置成能使与该适配器关联的类型的板中的井，与吸移辅助设备的至少一些光元件对准；和-孔口阵列，它把适配器的下部面连接到上部面，并力图允许吸移辅助设备的光元件发射的光到达微量滴定板的井。然而，适配器的改变必然伴随微量滴定板类型的改变，这使用户不胜其烦。此外， 给定的一套微量滴定板中的每一板要求与之关联的一套适配器，这带来较大的额外费用且非常不实用。
发明内容
在一个示例性实施例中，一种吸移辅助设备被提供。该设备包含，但不限于包括第一面的支座；多个光元件，被安装于该支座中以便在该第一面的平面中形成两维阵列；第一对准中心结构；以及第二对准中心结构。该第一对准中心结构被安装成从支座的第一面伸延并包含至少第一对和第二对阻挡壁，其中的一对阻挡壁形成拐角。该第二对准中心结构被安装成从支座的第一面伸延并包含至少第三对和第四对阻挡壁。该第一对阻挡壁和第三对阻挡壁形成第一类型板的第一定位区的拐角。该第二对阻挡壁和第四对阻挡壁形成第二类型板的第二定位区的拐角。该第一对准中心结构和第二对准中心结构被定位在第一定位区和第二定位区两者的外侧。本发明的其他主要特征和优点，本领域熟练技术人员在阅读下面的图、详细描述、 以及所附权利要求书后，将变得明显。
本发明的示例性实施例，将在下文参照附图描述，图中相同的数字标记相同的元件。图1画出已知工具箱的示意透视图，该工具箱包括吸移辅助设备、适配器、和微量滴定板。图2画出微量滴定板的示意顶视图，示出不同类型的第一和第二微量滴定板的孔口的偏移阵列。图3按照第一示例性实施例，展示吸移辅助设备的示意顶视图，示出与图2中的第一微量滴定板的配合。图4按照第一示例性实施例，示出图3所示吸移辅助设备上图2中的第二微量滴定板的位置。图5按照第一示例性实施例，展示图3的吸移辅助设备的示意顶视图，示出与图2 的第二微量滴定板的配合。图6按照第一示例性实施例，示出图3所示吸移辅助设备上第三微量滴定板的位置。图7按照第一示例性实施例，示出图3的吸移辅助设备的操作模式，供图3所示吸移辅助设备上第四微量滴定板使用。图8按照第一示例性实施例，展示图3的吸移辅助设备的示意顶视图，示出与第四微量滴定板的配合。图9按照第二示例性实施例，展示吸移辅助设备的示意顶视图。图10按照第三示例性实施例，展示吸移辅助设备的透视图。
具体实施例方式参考图1，按照示例性实施例的工具箱被出示，该工具箱包括吸移辅助设备10、 适配器12、以及被设计成方便手工吸移操作的微量滴定板14。吸移辅助设备10包括包括光元件18阵列的支座16 ；包含控制键20的用于控制光元件18的装置；以及适配器对准中心插头22。在示出的例子中，有384个光元件18按M列和16行的两维QD)阵列分布。适配器12包括下部面M和上部面沈，该下部面有设有组件孔口(未被展示)的周边，这些组件孔口被设计成与设备10的插头22配合，该上部面被设计成保持微量滴定板 14。适配器12还包括把它的下部面M连接到它的上部面沈的孔口阵列观，且它例如包含384个孔口，按类似于设备10的光元件18的排列方式被排列。微量滴定板14包括井30的阵列和有标准尺寸的凸缘形边缘32，该井阵列被配置成在吸移操作期间保持液体，该凸缘形边缘被配置成能使板14在适配器12上对准中心。例如，可以有384个井30按类似于设备10的光元件18的排列方式被排列。适配器12的上部面沈的边缘34，按能使板14的井30面对设备10的光元件18 定位的方式被排列。因此，当板14被装配在适配器12上且该适配器被定位在吸移辅助设备10上时，板中每一个井30可以被设备10的光元件18照射。在吸移操作过程中，操作员由此能够连续地使光元件18接通和断开，以便随时照射操作员正在其上进行操作的井30。设备10可以被用作包括较少数量井30的微量滴定板支座。然而，两个微量滴定板之间的井30数量上的差别，通常伴随这些板的井阵列相对于板边缘的偏移，如参照图2 所示。在图2中，小的圆36代表384个井在板14中的位置，而大的圆38代表在包括96个井的第二种板中井的位置。如在图2中所示，第二种板中的井38被定位在正方形的中心，每一正方形由第一种板的四个井36形成。换句话说，第二种板中井38阵列从第一种板中井36阵列相对于第二种板边缘偏移的距离，等于沿阵列两个方向的每一个分开第一种板的两个井36的间隔的一半。因此，当第二种板被装配在第一适配器14上时，被排列成能使第二种板相对于被第一种板占据的位置有相等偏移的第二适配器是必需的，以便第二种板中的井38相对于吸移辅助设备10的光元件18能够被正确地定位。图3示意地展示包括支座42的吸移辅助设备40，支座42包含光元件44阵列和�？槎宰贾行淖爸�。在一个示例性实施例中，光元件44阵列可以由发光二极管形成，而�？榭梢园⒘康味ò�、试管支承板等等。支座42、光元件44阵列和�？槎宰贾行淖爸眯纬勺榧�。设备40还包括用于控制光元件44阵列的装置。这些装置在图3中是看不见的，且可以包含例如输入接口、通信接口、计算机可读媒体、处理器、以及控制应用程序。如本领域熟练技术人员所知，输入接口提供从操作员接收用于输入吸移辅助设备 40的信息的接口。该输入接口可以使用各种输入技术，包含，但不限于键盘、笔和触摸屏、 鼠标、跟踪球、触摸屏、小键盘、一个或多个按钮等等，以便允许操作员把信息输入吸移辅助设备40或对显示器上显示的用户界面作出选择。该输入接口可以提供输入和输出接口两者。例如，触摸屏既允许操作员输入也向操作员给出输出。吸移辅助设备40可以有一个或多个使用相同或不同输入接口技术的输入接口。如本领域熟练技术人员所知，计算机可读媒体是信息的电子保存地点或储存器， 以便信息能够被处理器存取。计算机可读媒体能够包含，但不限于任何类型的随机存取存储器(RAM)、任何类型的只读存储器(ROM)、任何类型的快速擦写存储器等等，诸如磁储存设备(如硬盘、软盘、磁带、...)、光盘(如⑶、DVD,...)、智能卡、快速擦写存储设备等等。 吸移辅助设备40可以有一种或多种使用相同或不同存储媒体技术的计算机可读媒体。吸移辅助设备40还可以有一个或多个支持存储器媒体，诸如CD或DVD装入的驱动器。本领域熟练技术人员周知，通信接口提供在使用各种协议、传输技术和媒体的设备之间接收和发送数据的接口。通信接口可以支持使用各种可以是有线的或无线的传输媒体的通信。吸移辅助设备40可以有一个或多个使用相同或不同通信接口技术的通信接口。 数据可以在吸移辅助设备40和使用该通信接口的其他设备之间转移，由此提供到达其他系统的连通性。例如，通信接口可以与安装在吸移管上的填充传感器通信，以便能自动监控吸移操作。本领域熟练技术人员周知，处理器执行指令。这些指令可以被专用计算机、逻辑电路、或硬件电路完成。因此，处理器可以按硬件、固件、软件、或这些方法的任何组合实施。 术语“执行”是运行应用程序或完成指令要求的操作的过程。指令可以用一种或多种编程语言、脚本语言、汇编语言等等编写。处理器执行指令，意思是它实行该指令要求的操作。 处理器可操作地与输入接口、与计算机可读媒体和与通信接口耦合，以接收、发送和处理信息。处理器可以从永久存储设备检索一组指令，并按可执行形式把这些指令复制到临时存储设备，该临时存储设备一般是某些形式的RAM。吸移辅助设备40可以包含多个使用相同或不同处理技术的处理器。控制应用程序执行与光元件44阵列的控制关联的操作。控制应用程序可以通过输入接口接收输入，以便用户能够把微量滴定板或试管支承板的类型通知吸移辅助设备 40，于是该控制应用程序能够相应地适应光元件44阵列的操作模式。作为一种变通，控制应用程序可以与被安排在不同�？榻幽汕系哪？槌鱿执衅鞴亓蛘吒话愕赜肴魏卫嘈湍？槭侗鹱爸霉亓员阕魑褂媚？槔嘈偷暮远厥视庠�44的性能。 控制应用程序可以用一种或多种编程语言、汇编语言、脚本语言等等编写。�？槎宰贾行淖爸冒ū话沧霸谥ё�42上的两个对准中心结构46和48，例如通过焊接或用螺丝固定进行安装。如在本文中所使用，术语“安装”包含接合、连结、连接、联合、插入、悬挂、保持、固定、附着、紧固、结合、粘贴、扣紧、螺栓固定、拧紧、铆紧、低温焊、熔焊、压紧、一起形成、胶合、以及其他类似的术语。对准中心结构46、48可以可移除地安装于支座42，或者该支座可以包括凹坑，对准中心结构46、48可以通过任何合适类型的装置收缩进这些凹坑。该可移除的固定模式可以由适当的装置诸如弹性夹紧配合提供。收缩对准中心结构46、48减小该设备的大�。阌谖聘ㄖ璞�40的运输和存储。每一个对准中心结构46和48都有四个阻挡壁50到64，这些阻挡壁垂直于支座 42平面伸延，并被配置成在把这种微量滴定板或试管支承板定位在支座42上期间与微量滴定板或试管支承板的矩形边缘相配合，使该板能够被对准中心。对准中心结构46和48 的阻挡壁50到64在每一个对准中心结构46、48上形成台阶形表面。第一对准中心结构46的两个阻挡壁50和54，以及第二对准中心结构48的两个阻挡壁58和62，沿光元件44的2D阵列两个方向的第一方向66伸延，而第一对准中心结构46的另两个阻挡壁52和56，以及第二对准中心结构48的另两个阻挡壁60和64，沿光元件44的2D阵列两个方向的第二方向68伸延。首先由第一对准中心结构46的壁50和52，其次由第二对准中心结构48的壁58 和60所形成的拐角表面，各在第一类型微量滴定板覆盖支座42的第一矩形区70的位置中，形成用于使包括384个井的第一类型微量滴定板对准中心的装置。这些对准中心装置被安排在该区70的对角线之一的两端，在所述区70的外侧。阻挡壁50、52、58和60因而形成第一组对准中心装置，它们被设计成用于使第一类型微量滴定板对准中心。按类似的方式，首先由第一对准中心结构46的壁讨和56，其次由第二对准中心结构48的壁62和64形成的拐角表面的每一个，各在第二类型微量滴定板覆盖支座42的第二矩形区72的位置中，形成用于使包括96个井的第二类型微量滴定板对准中心的装置，且这些对准中心装置被安排在该区72的对角线之一的两端，在所述区72的外侧。阻挡壁54、 56,62和64因而形成第二组对准中心装置，它们将被用于第二类型对准中心板。第一矩形区70和第二矩形区72对应于第一和第二类型微量滴定板的�？榻幽汕�。在图3的示例性实施例中，沿垂直于阻挡壁M、50、62和58的第二方向68，阻挡壁 54离阻挡壁50的间距和阻挡壁62离阻挡壁58的间距，约等于沿第二方向68分开设备40 的两个相继光元件44的间隔的1. 5倍。类似地，沿垂直于阻挡壁56、52、64和60的第一方向66，阻挡壁56离阻挡壁52的间距和阻挡壁64离阻挡壁60的间距，约等于沿第一方向 66分开设备40的两个相继光元件44的间隔的1. 5倍。对准中心结构46、48的阻挡壁，分别能使两种类型板的井与设备40的光元件44重合，同时允许大宽度的阻挡壁52及64和阻挡壁讨及58。在一个示例性实施例中，这些阻挡壁的宽度受壁之间的上述间距的值的限制，因此这些壁不在�？榻幽汕�70和72之上伸延。上述壁的大的宽度，允许这些壁有效地把�？楸３衷谥ё�42上它们的对准中心位置中。图3展示符号表示的那些光元件44的实心圆片74，当第一类型板被安装在支座 42上并在支座42的区70上被形成第一组对准中心装置的阻挡壁50、52、58和60对准中心时，那些光元件44与第一类型板中的384个井对准。光元件44阵列包括以空心圆符号表示的光元件的附加的行和列76，该附加的行和列76不供第一类型板使用，但供第二类型板使用。图4展示第二类型板相对于设备40的光元件44的位置。在图4中，如果第二类型板被定位在支座42的第一区70上，并被阻挡壁50、52、58和60对准中心时，以阴影线圆片78展示第二类型板96个井中一些井的位置。当第二类型板被放置在支座的第二区72 上，并被阻挡壁M、56、62和64对准中心时，以图4中的实心圆片80符号表示第二类型板的井的位置。因此，第二类型板在支座的第二区72上的定位，是把井定位在光元件44阵列上方。箭头82指出支座42的两个区70和72之间的偏移，偏移的幅度等于沿光元件44 阵列的每一方向分开两个相邻光元件44的间隔的1. 5倍，以便使板的井与光元件44对准。 分开两个相邻光元件44的间隔的0. 5倍的偏移，也能使第二类型板中的井与光元件44对准。然而，较大幅度的偏移可能增加阻挡壁52及64和阻挡壁M及58的尺寸，从而使这些壁能够向安装在设备40上的微量滴定板提供良好的支承，其中包含板的边缘有圆形拐角的情形，只要这些拐角的曲率半径大致等于分开两个相邻光元件44的间隔的一半。但是， 较大幅度的偏移导致光元件76的行和列的添加，以让光元件44的阵列覆盖第二类型板中所有井。图5展示第二类型板的96个井相对于光元件44阵列的位置。设备40还任选地包括第二对准中心结构84和86，各被分别安排在第一区70的拐角中和第二区72的拐角中，且与安排对准中心结构46和48的拐角不同。对准中心结构46和48被沿对角线彼此相对地安排，而第二对准中心结构84和86被沿对角线彼此相对地安排。第二对准中心结构84和86，还可以适合用于使包括M个井的第三类型微量滴定板对准中心，对该种微量滴定板，井的位置相对于第一类型板中井的位置的偏移，是按照光元件44阵列方向66、68分开两个相邻光元件44的间隔的1. 5倍。该偏移与支座42的第一区70和第二区72之间提供的偏移相同。
图6展示第三类型微量滴定板相对于设备40中光元件44阵列的位置，这里分别当第三类型微量滴定板处于被第一组对准中心装置定义的位置中时，第三类型微量滴定板中井的位置以阴影线圆片88表示，和当该板被第二组对准中心装置对准中心时，以实心圆片90表示。因此，两组中任一组对准中心装置都可以被用于相对于设备40中光元件44阵列定位第三类型微量滴定板。箭头92指出，如何使支座42的两个区70和72之间的偏移能够安排第三类型板中的井，以便它们与一些光元件44重合。在使用第三类型板的情形中， 光元件的附加的行和列76是不必要的。当使用的板中的井有足够大的横截面覆盖若干光元件44时，如图7所示，则由若干光元件94照射板中每一个井是可能的。作为例子，图8展示当第四类型板被定位在支座42的第二区72上时，该第四类型板的16个井可以被以实心圆片表示的多组光元件94照射的方式。在该例子中，每一组光元件94包括其光发射轴与板对应井的轴重合的中央光元件。然而，不同的配置也是可能的。 例如，每一组光元件94不一定包含被定位在板上的对应井的中心线上的中央光元件，而是围绕该轴分布的光元件的布局。板中井之间的间距沿光元件44阵列的两个方向可以不相同，如图8所示。一般说来，对准中心装置的排列可以适应任何类型微量滴定板或试管支承板所要求的偏移，该微量滴定板或试管支承板包括任何数量的井或管。尤其是，两个板接纳区之间的偏移沿光元件44阵列的两个方向可以不相同。另外，被安排在支座42上的对准中心装置的组的数量也可以大于2，以便能够支持较大数量类型的、可能使用不同偏移的板。图9由此示意展示三组对准中心装置在吸移辅助设备96上的排列，该吸移辅助设备96与上面描述的设备40类似。这些对准中心装置包括三组对准中心装置共用的两个对准中心结构98和100。两个对准中心结构98和100的每一种有形成六个阻挡壁的台阶形表面，每一阻挡壁包括三对相互垂直的壁，以便定义三个区102、104和106，用于支持至少三种不同类型的板。吸移辅助设备可以有利地与若干不同类型微量滴定板或试管支承板关联，并可以包括相同数量的对准中心装置的组，以形成吸移工具箱。这样的工具箱可以包含一个或数个吸移管和多种板。此外，吸移辅助设备可以包括数个上述类型的组件，这些组件彼此相邻并包括单个共用的支座，以便能够同时并排支承若干�？�。例如，图10展示包括两个并排组件以支承两种微量滴定板的吸移辅助设备140。 参考图10，以附标“a”标记的参考数字与属于该设备的组件之一的元件有关，而以附标“b” 标记的参考数字与属于该设备的另一个组件的元件有关。设备140包括两个光元件矩阵 14 及144b和�？槎宰贾行脑昧礁龉庠卣蟛⑴旁谕恢ё�142上，供设备的两个组件共用，该�？槎宰贾行脑肭懊婷枋龅谋话才旁谥ё�142上的那些类似，并与该两个光元件矩阵14 和144b的每一个关联。模块对准中心结构包括两个对准中心结构146a及146b和对准中心结构148，该两个对准中心结构146a及146b类似于图3的对准中心元件46，被安排围绕设备的周边，该对准中心结构148分别被安排在两个光元件矩阵14 和144b之间。对准中心结构146a包括阻挡壁150aU52aU54a和156a，而对准中心结构146b包括阻挡壁150b、152b、154b和 156b，因此，�？槟芄环直鹈娑怨庠卣�14 和144b而被对准中心。对准中心结构148包括第一阻挡壁158a、160a、16^i及16 和另外的阻挡壁15汕、160b、16 及164b，该第一阻挡壁158a、160a、16 及16 被设计成与对准中心结构 146a的阻挡壁150a、152a、15 及156a配合，该另外的阻挡壁158b、160b、162b及164b被配置成与对准中心结构146b的阻挡壁150b、152b、154b及156b配合。对准中心结构148 因此供该设备的两种组件共用。如图10示意所示，设备140还包括附加的�？槎宰贾行慕峁�184a、184b和186，它们与设备40的结构84和86类似。设备140还包括光元件矩阵14 和144b的控制装置 120。图10所描述类型的设备，例如可以有利地被用于联合地监控一种或数种液体从第一种微量滴定板的井取出，和把这些液体配制进第二种微量滴定板的井中的抽样操作。 尤其是利用该设备，例如当要求从第一板的大量井中取出数种不同试剂的样本，并在第二种板的较少数量的井中把它们组合时，两种包括不同数量井的微量滴定板能够被一起使用。该设备保证每一种板相对于光元件的对应阵列的正确位置，以便给出最佳的操作监控质量。—种吸移辅助设备已经被描述，它包含至少一种包括支座的组件，该支座将接纳近似矩形形状的�？椋媚？榘ɑ岷幸禾宓目卓�(orifice)。该支座包括分布在两维矩阵中的多个光元件和被安排在该支座上数量N(至少幻组的�？槎宰贾行淖爸茫庑┠？槎宰贾行淖爸梅直鸢次恢帽徊贾迷谥ё希糜谑筃种不同类型�？槎宰贾行模员闼瞿？榉直鸶哺荖个相互偏移的支承区。在一个示例性实施例中，对准中心装置被布置在全部支承区的外侧。本说明书中，术语“�？椤敝肝⒘康味ò寤蚴怨苤С邪澹蚶嗨评嘈偷慕峁�。在该第一种情形中，�？橹械目卓谑前逯芯娜肟诳卓冢诘诙智樾沃校？榭卓谑鞘怨茏榧卓�。N个区的相对偏移能够被定义，以便允许补偿不同类型�？橹锌卓谂帕械牟钜欤允箍卓谙喽杂谥ё系墓庠恼范ㄎ�。由于被安排在设备支座上的多组�？槎宰贾行淖爸茫煌嘈湍？槟芄槐恢苯佣ㄎ辉谥ё希备莶煌嘈湍？榈亩杂ψ榧恢弥涞氖实逼疲Ｖつ？榈目卓谙喽杂谥ё系墓庠牧己孟喽晕恢�。利用该对准中心装置，吸移辅助设备避免了使用适配器和上述有关适配器使用的缺点。在一个示例性实施例中，不同类型�？橹锌卓谖恢貌钜斓牟钩ィ贾虏煌湫》鹊钠疲拐庑┣ü灿貌糠�。在一个示例性实施例中，所述区的每一个完全覆盖支座上所有光元件，因而这些光元件的益处能够被利用，与所使用�？榈睦嘈臀薰�。支承区可以有大致相同的尺寸。因为这些区的尺寸由模块对准中心装置的排列定义，标准大小的�？槟芄槐皇褂�。然而，作为一种变通，�？槎宰贾行淖爸媚芄槐慌帕校员隳芄皇共煌叽绲哪？槎宰贾行�。在一个示例性实施例中，对准中心装置包含至少两个对准中心结构，该两个对准中心结构被安排在对应支承区的对角线的两端，且该两个对准中心结构有相互垂直的两个阻挡壁。该种类型的对准中心装置能够为�？樘峁┝己玫闹С校北３种圃斓募虻ズ土�。在一个示例性实施例中，对准中心结构由有直角拐角表面的单一部分形成。这种类型的对准中心结构，有良好的机械强度且是小型的，尤其有利于�？橹С星涞男》绕频那樾�。在一个示例性实施例中，每一个对准中心结构供所有各组对准中心装置共用并有台阶形表面。这样，该设备可以包括少数有良好机械强度和容易构造的对准中心结构。一般说，模块对准中心装置被有利地布置，使模块的孔口的中心线能够被做成与支座的至少一些光元件的相应光发射轴重合。作为一种变通，尤其在包括有相对大横截面的孔口的�？槔嘈偷那樾沃校？槎宰贾行淖爸没箍梢员徊贾贸墒构庠颇？榈拿恳豢卓诘闹峋鶆蚍植�。在一个示例性实施例中，第一组对准中心装置被配置成在支座第一区上使包括 LXC个液体接纳孔口的�？槎宰贾行模诙槎宰贾行淖爸帽慌渲贸稍谥ё诙鲜拱↙/2 X C/2个液体接纳孔口的�？槎宰贾行模弥ё嫌蠰X C个光元件，而第二支承区从第一区偏移的距离，约等于沿矩阵两个方向的每一个分开支座的两个相继光元件的间隔的0.5倍。在这种情形中，第二支承区从第一支承区偏移的幅度，等于第二模块中孔口矩阵相对于第一�？橹锌卓诰卣蟮钠品�。因为第一�？橹锌卓诘亩杂卣蠛椭ё墓庠抢嗨频模昧阶槎宰贾行淖爸靡蚨苁迪值谝荒？橹锌卓谝约暗诙？橹锌卓谟胫ё墓庠亩宰肌Ｔ诹硪桓鍪纠允凳├校ё嫌�(L+l) X (C+1)个光元件，而第二支承区从第一区偏移的距离，等于沿该矩阵的两个方向分开支座的两个相继光元件的间隔的约1. 5 倍。因为在该情形中，第二�？榈目卓诰卣笥氲谝荒？榈目卓诰卣笾涞钠品龋驳扔诜挚ё狭礁鱿嗉坦庠募涓舻�0. 5倍，所以在该情形中，支座第二区从第一区偏移的幅度，等于第二�？橹锌卓诰卣蟠拥谝荒？橹锌卓诰卣笃频姆扔敕挚ё牧礁鱿嗉坦庠募涓糁汀Ｓ捎诘诙С星偷谝磺涞慕洗笃疲门渲檬顾茉黾幽？槎宰贾行淖爸玫某叽纾愿慕？槿绾伪欢宰贾行淖爸弥С校挥蟹涟？橹С星哪？槎宰贾行淖爸�。如果必需依赖第二�？橹锌卓诘呐帕校ё梢园ǜ郊庸庠男泻土校怪ё墓庠卣竽芄桓哺堑诙？橹兴锌卓�。被本文使用的字“例子”，指用作例子、举例、或示例。本文作为“例子”描述的任何方面或设计，不一定被解释为比其他方面或设计可取或优势。此外，为本公开的目的和除非另外指出，“某个”或“一个”意指“一个或多个”。本发明前面的示例性实施例的描述，已经为示例和描述的目的被给出。不企图是无遗漏的或把本发明限制于所公开的精确形式，而借鉴上面的教导，或者可以从本发明的实践获得的修改和变化是可能的。这些实施例的选择和描述，是为了解释本发明的原理和作为本发明的实际应用，以使本领域熟练技术人员能够按各种实施例并以适合所考虑的特定使用的各种修改利用本发明。应当指出，本发明的范围由所附权利要求书及其等价叙述限定。
权利要求
1.一种设备，包括 包括第一面的支座；安装在该支座上的多个光元件，以便在该第一面的平面中形成两维阵列； 第一对准中心结构，被安装成从支座的第一面伸延并包括至少第一对和第二对阻挡壁，其中的一对阻挡壁形成拐角；和第二对准中心结构，被安装成从支座的第一面伸延并包括至少第三对和第四对阻挡壁；其中第一对阻挡壁和第三对阻挡壁形成第一类型板的第一定位区的拐角，而第二对阻挡壁和第四对阻挡壁形成第二类型板的第二定位区的拐角；以及且其中第一对准中心结构和第二对准中心结构被定位在第一定位区和第二定位区两者的外侧。
2.权利要求1的设备，还包括第一类型板的板。
3.权利要求1的设备，还包括第三对准中心结构，被安装成从支座的第一面伸延并包括至少第五对阻挡壁，其中该第五对阻挡壁形成第一类型板的第一定位区的第三拐角。
4.权利要求3的设备，还包括第四个对准中心结构，被安装成从支座的第一面伸延并包括至少第六对阻挡壁，其中该第六对阻挡壁形成第二类型板的第二定位区的第三拐角。
5.权利要求1的设备，其中当第一类型板被定位在第一定位区中时，第一类型板的孔口与该多个光元件的一部分对准。
6.权利要求5的设备，其中当第二类型板被定位在第二定位区中时，第二类型板的孔口与该多个光元件的第二部分对准，其中该多个光元件的第一部分不同于该多个光元件的第二部分。
7.权利要求6的设备，其中第一类型板的孔口的第一数量不同于第二类型板的孔口的第二数量。
8.权利要求1的设备，其中第一对准中心结构还包括第五对阻挡壁，而第二对准中心结构还包括第六对阻挡壁，其中第五对阻挡壁和第六对阻挡壁形成第三类型板的第三定位区的拐角。
9.权利要求1的设备，其中第一定位区和第二定位区包含该多个光元件。
10.权利要求1的设备，其中该第一对准中心结构与第二对准中心结构成对角线。
11.权利要求1的设备，其中该拐角形成直角。
12.权利要求1的设备，其中该第一对准中心结构与第二对准中心结构被可移除地安装于该支座上。
13.权利要求1的设备，其中该第一对准中心结构与第二对准中心结构可收缩进支座的第一面中。
14.权利要求1的设备，其中该第一对阻挡壁有不同于第二对阻挡壁的长度。
15.权利要求1的设备，其中该第一对阻挡壁的第一阻挡壁有不同于该第一对阻挡壁的第二阻挡壁的长度。
16.权利要求1的设备，其中该第一类型板选自由微量滴定板和试管支承板组成的组。
17.权利要求1的设备，还包括第二批多个光元件，被安装在支座中，以便在第一面的平面中形成第二两维阵列；和第三对准中心结构，被安装成从支座的第一面伸延并包括至少第五对阻挡壁；其中该第二对准中心结构还包括第六对阻挡壁；其中该第五对阻挡壁和第六对阻挡壁形成第三类型板的第三定位区的拐角，而该第三定位区包含该第二批多个光元件。
18.权利要求17的设备，其中该第一类型板和第三类型板是相同类型的板。
19.权利要求1的设备，其中该多个光元件的第一数量，大于第一类型板孔口的第一数量和第二类型板的孔口的第二数量中的最大数量。
20.权利要求1的设备，还包括处理器；和与该处理器可操作地耦合的计算机可读媒体，该计算机可读媒体有储存其上的指令， 这些指令当被处理器执行时，使该系统控制该多个光元件的接通和断开。
21.一种吸移辅助设备，包括至少一个组件，该组件包括接纳大致矩形形状�？榈闹ё庑┠？榘ê幸禾宓目卓冢弥ёò戳轿卣蠓植嫉亩喔龉庠蒙璞傅奶卣髟谟冢鲎榧ㄊ恐辽傥�2的N组�？槎宰贾行淖爸茫庑┠？槎宰贾行淖爸梅直鸢次恢帽徊贾迷谥ё希糜谑筃种不同类型�？槎宰贾行模员闼瞿？榉直鸶哺荖个相互偏移的支承区，所述对准中心装置被布置在全部支承区的外侧。
22.按照权利要求21的设备，特征在于，该支座的所述区包括这些区共用的部分。
23.按照权利要求21或22的设备，特征在于，每一所述区覆盖支座上所有光元件。
24.按照前面权利要求任一项的设备，特征在于，支座上的所述区有大致相同的尺寸。
25.按照前面权利要求任一项的设备，特征在于，每一组对准中心装置，包括至少两个对准中心结构，被布置在支座对应区的对角线的两端，且有两个相互垂直的阻挡壁。
26.按照权利要求25的设备，特征在于，每个对准中心结构由有直角弯头表面的单一部分形成。
27.按照权利要求沈的设备，特征在于，每一所述对准中心结构供对准中心装置的所有组共用，并有阶梯形表面。
28.按照权利要求25到27任一项的设备，特征在于，所述对准中心结构被固定在支座上。
29.按照权利要求25到27任一项的设备，特征在于，所述对准中心结构是被可移除地添加到支座上。
30.按照权利要求25到27任一项的设备，还包括用于使所述对准中心结构的每一个收缩进支座上对应外壳中的装置。
31.按照权利要求21到30任一项的设备，其中第一组对准中心装置被设计成在支座第一区上使包括LXC个液体接纳孔口的�？槎宰贾行模诙槎宰贾行淖爸帽簧杓瞥稍谥ё诙鲜拱↙/2XC/2个液体接纳孔口的�？槎宰贾行模渲兄ё嫌蠰XC个光元件，而所述第二区从所述第一区偏移的距离，等于沿所述矩阵两个方向的每一个分开支座的两个相继光元件的间隔的约0. 5倍。
32.按照权利要求21到30任一项的设备，其中第一组对准中心装置被设计成在支座第一区上使包括LXC个液体接纳孔口的�？槎宰贾行模诙槎宰贾行淖爸帽簧杓瞥稍谥ё诙鲜拱↙/2XC/2个液体接纳孔口的�？槎宰贾行模渲兄ё嫌�(L+l) X (C+1)个光元件，而所述第二支座区从该第一区偏移的距离，等于沿该矩阵两个方向的每一个分开支座的两个相继光元件的间隔的约1. 5倍。
33.按照前面权利要求任一项的设备，特征在于，该支座被设计成保持微量滴定板和/ 或试管支座类型。
34.按照前面权利要求任一项的设备，特征在于，它包括至少两个并排的组件，该两个并排的组件包括所述组件共用的单一支座。
35.按照权利要求34的设备，特征在于，它包括所述至少两个组件中的两个共用的至少一个对准中心元件。
36.一种工具箱，包括按照前面权利要求任一项的吸移辅助设备，以及与该设备中每一各有不同类型的组件关联的数量为N的�？椋柚鑫聘ㄖ璞付杂ψ榧乃鯪组对准中心装置之一，能够使这些模块对准中心。
全文摘要
一种吸移辅助设备被提供，它包含包括第一面的支座；安装在该支座上的多个光元件，以便在该第一面的平面中形成两维阵列；第一对准中心结构；以及第二对准中心结构。该第一对准中心结构和第二对准中心结构被安装成从支座的第一面伸延。该第一对准中心结构包含第一对和第二对阻挡壁，其中的一对阻挡壁形成拐角。该第二对准中心结构包含第三对和第四对阻挡壁。该第一对和第三对阻挡壁形成第一类型板的第一定位区的拐角。该第二对和第四对阻挡壁形成第二类型板的第二定位区的拐角。第一对准中心结构和第二对准中心结构被定位在第一定位区和第二定位区两者的外侧。
文档编号G01N35/10GK102245306SQ200980148922
公开日2011年11月16日 申请日期2009年12月4日 优先权日2008年12月10日
发明者P·罗塞利 申请人:吉尔松有限合伙公司
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
