专利名称：免疫荧光专用玻片底座的制作方法
技术领域：
免疫荧光专用玻片底座技术领域:本实用新型涉及一种免疫荧光专用玻片底座。
背景技术：
:目前，用细胞做免疫荧光实验时，需要细胞爬片至盖玻片上，由于盖玻片面积小，无专用玻片底座，容易导致抗体流失，浪费了抗体，拿放不小心容易导致盖玻片破碎，影响实验的开展。发明内容:本实用新型的目的在于克服上述缺点，提供一种免疫荧光专用玻片底座，它主要解决了用细胞做免疫荧光实验时，盖玻片面积�。挥凶ㄓ貌Ｆ鬃菀椎贾驴固辶魇В梅挪恍⌒牡贾赂遣Ｆ扑榈任侍�。本实用新型的目的是这样实现的，免疫荧光专用玻片底座由:载玻片底座、盖玻片凹槽、橡胶条构成。载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽，盖玻片凹槽的四周装有橡胶条，橡胶条厚度为2 — 3mm。该产品结构简单，设计合理，载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽，防止了抗体的流失，节省了抗体的使用，玻片放在专用底座上，盖玻片拿放方便，不容易破碎，清洗方便，成本低。
:附图1是本实用新型免疫荧光专用玻片底座的主视图。附图2是本实用新型免疫荧光专用玻片底座的俯视图。I 一载玻片底座 2—盖玻片凹槽 3—橡胶条具体实施方式
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以下结合附图详细说明本实用新型的最佳实施例，免疫荧光专用玻片底座由:载玻片底座1、盖玻片凹槽2、橡胶条3构成。载玻片底座I上设有多个盖玻片凹槽2，盖玻片凹槽2的四周装有橡胶条3，橡胶条3厚度为2 — 3mm。
权利要求1.一种免疫荧光专用玻片底座，它由:载玻片底座(I)、盖玻片凹槽(2)、橡胶条(3)构成，其特征在于:载玻片底座(I)上设有多个盖玻片凹槽(2)，盖玻片凹槽(2)的四周装有橡胶条(3)，橡胶条(3)厚度为2 — 3mm。
专利摘要本实用新型涉及一种免疫荧光专用玻片底座，它由:载玻片底座、盖玻片凹槽、橡胶条构成。载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽，盖玻片凹槽的四周装有橡胶条，橡胶条厚度为2—3mm。该产品结构简单，设计合理，载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽，防止了抗体的流失，节省了抗体的使用，玻片放在专用底座上，盖玻片拿放方便，不容易破碎，清洗方便，成本低。
文档编号G01N33/552GK202975017SQ20122069347
公开日2013年6月5日 申请日期2012年12月16日 优先权日2012年12月16日
发明者刘蕾, 陈立平, 马小茹, 陈 光, 王薇, 王淑秋, 王景涛, 刘君星 申请人:佳木斯大学
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