专利名称：一种用于硫化仪的温度测量装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及测量设备技术领域，尤其涉及一种用于硫化仪的温度测量装置。
背景技术：
硫化仪是连续测定胶料硫化过程中各种性能变化的仪器，由模腔、转矩测定系统、控温系统和记录仪等组成，其工作原理是测定胶料在硫化过程中剪切模量的变化，而剪切模量与交联密度成正比，因此测定结果反映了胶料在硫化过程中交联程度的变化，可以测出胶料初始黏度、焦烧时间、硫化速度、正硫化时间和过硫返原性等重要参数。其中，硫化仪模腔中的上�：拖履Ｖ涞墓ぷ魑露龋聪鸾罕患游鲁墒旖旱奈露刃枰胁饬浚Ｓ玫姆椒ㄊ牵烊胍坏缗枷咧辽夏：拖履Ｖ洌佣莸缗枷卟獬鏊� 温度。然而，电偶线容易被压断，常常导致测量无法顺利进行，并大大影响测量效率和测量精度。
发明内容本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种用于硫化仪的温度测量装置，可顺利进行测量，大大提高测量效率和测量精度。为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案一种用于硫化仪的温度测量装置，它包括用于放置于硫化仪模腔内的圆柱铜块，圆柱铜块的上部开设有与硫化仪模腔的上模匹配的上凹槽，圆柱铜块的下部开设有与硫化仪模腔的下模匹配的下凹槽，圆柱铜块的中部开设有电偶线插孔。所述上凹槽的截面呈弧形。所述下凹槽的截面呈弧形。所述电偶线插孔开设至圆柱铜块的内部的中间位置。所述圆柱铜块的圆柱直径为40mm,厚度为7mnT8mm。本实用新型有益效果为本实用新型所述的一种用于硫化仪的温度测量装置，其结构为，它包括用于放置于硫化仪模腔内的圆柱铜块，圆柱铜块的上部开设有与硫化仪模腔的上模匹配的上凹槽，圆柱铜块的下部开设有与硫化仪模腔的下模匹配的下凹槽，圆柱铜块的中部开设有电偶线插孔。采用上述结构的用于硫化仪的温度测量装置，可顺利进行测量，大大提高测量效率和测量精度。
附图I是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明如图I所示，本实用新型所述的一种用于硫化仪的温度测量装置，其结构是，它包括用于放置于硫化仪模腔内的圆柱铜块1，圆柱铜块I的上部开设有与硫化仪模腔的上模匹配的上凹槽2，圆柱铜块I的下部开设有与硫化仪模腔的下模匹配的下凹槽3，圆柱铜块I的中部开设有电偶线插孔4，用于插入电偶线。优选的，所述圆柱铜块I的圆柱直径为40mm,厚度为7mnT8mm,与硫化仪模腔的大小相匹配。作为优选的实施方式，所述上凹槽2和下凹槽3的截面均呈弧形，该形状与硫化仪模腔的上�：拖履Ｏ嗥ヅ洌珊芎玫赜肷夏：拖履＝哟ィ佣既返卮萑饶埽从尘返�
温度值。作为优选的实施方式，所述电偶线插孔4开设至圆柱铜块I的内部的中间位置，电偶线插入至圆柱铜块I的内部的中间位置，可以精确地测量出圆柱铜块I的温度。工作时，将圆柱铜块I放入硫化仪模腔内，上�：拖履：夏＃艚粞棺≡仓�1， 由于圆柱铜块I具有良好的导热性能，可精准地反映上�：拖履Ｖ涞奈露龋佣沟缗枷呔返夭饬砍龈梦露�。圆柱铜块I对电偶线起到保护作用，能有效地避免电偶线被压断，可保证顺利地进行测量，大大提高测量效率和测量精度。以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。
权利要求1.一种用于硫化仪的温度測量装置，其特征在于它包括用于放置于硫化仪模腔内的圆柱铜块(1)，圆柱铜块(I)的上部开设有与硫化仪模腔的上模匹配的上凹槽(2)，圆柱铜块(I)的下部开设有与硫化仪模腔的下模匹配的下凹槽(3)，圆柱铜块(I)的中部开设有电偶线插孔(4)。
2.根据权利要求I所述的ー种用于硫化仪的温度測量装置，其特征在于所述上凹槽(2)的截面呈弧形。
3.根据权利要求2所述的ー种用于硫化仪的温度測量装置，其特征在于所述下凹槽(3)的截面呈弧形。
4.根据权利要求3所述的ー种用于硫化仪的温度測量装置，其特征在于所述电偶线插孔(4)开设至圆柱铜块(I)的内部的中间位置。
5.根据权利要求4所述的ー种用于硫化仪的温度測量装置，其特征在于所述圆柱铜块(I)的圆柱直径为40mm,厚度为7mnT8mm。
专利摘要本实用新型涉及测量设备技术领域，尤其涉及一种用于硫化仪的温度测量装置，它包括用于放置于硫化仪模腔内的圆柱铜块，圆柱铜块的上部开设有与硫化仪模腔的上模匹配的上凹槽，圆柱铜块的下部开设有与硫化仪模腔的下模匹配的下凹槽，圆柱铜块的中部开设有电偶线插孔。采用上述结构的用于硫化仪的温度测量装置，可顺利进行测量，大大提高测量效率和测量精度。
文档编号G01K7/04GK202547813SQ201220106149
公开日2012年11月21日 申请日期2012年3月21日 优先权日2012年3月21日
发明者刘龙, 聂雪明, 高军 申请人:东莞市世通仪器检测服务有限公司
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