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专利名称：动态光散射用蛋白质晶体生长样品池的制作方法
技术领域：
本实用新型提供一种晶体生长样品池，特别是指一种动态光散射蛋白质晶体生长样品池。
动态光散射可以检测并特征表示上述聚集。从二十世纪八十年代初开始，陆续有许多科研工作者用动态光散射对批量法生长的蛋白质晶体生长过程进行了研究，但是几乎所有用动态光散射研究蛋白质晶体生长的实验都采用的是批量法培养蛋白质晶体，尚未见到有应用汽相扩散法的报道。虽然汽相扩散法和批量法都是培养蛋白质晶体常用的方法，但前者更为常用，实际使用比例高达80％-90％。我们设计了动态光散射用蛋白质晶体生长样品池，它具有如下特点在此样品池中既可用批量法也可用汽相扩散法生长蛋白质晶体；生长所需的蛋白质样品量很少，只需几十微升；可方便地调节汽相扩散速度。
本实用新型一种动态光散射用蛋白质晶体生长样品池，其特征在于，其中包括一调节器，该调节器为圆筒体，在该筒体的底部固接一下底，在该下底的中心位置开有一方孔，在该调节器的上端形成一开口；一散射池，该散射池为方形柱体中空，该散射池的下方密封，上方为开口状而形成一容器，该散射池的边长小于调节器的直径，该散射池的边长与调节器下底的中心方孔的边长相同，该散射池穿过调节器下底的中心方孔并与之固接；一上盖，该上盖螺接于调节器上端的开口。
其中散射池是由聚四氟乙烯制成。
其中调节器是由光学玻璃制成。
其中该散射池穿过调节器下底的中心方孔并与之固接的方式为粘接。
一散射池20，该散射池20为方形柱体中空，该散射池20的下方密封，上方为开口状而形成一容器，该散射池20的边长小于调节器10的直径，该散射池20的边长与调节器10下底11的中心方孔12的边长相同，该散射池20穿过调节器10下底11的中心方孔12并与之粘接，该散射池20是由聚四氟乙烯制成。
一上盖30，该上盖30螺接于调节器10上端的开口13。
因该散射池20穿过调节器10下底11的中心方孔12并与之粘接，其粘接的位置是调节器10下底11与散射池20概略中间的位置，所以在调节器10内和散射池20上部之间形成有一环形的容室14。
本实用新型的工作过程为采用批量法生长蛋白质晶体时，主要采用降(或升)温的方法，最终使蛋白质溶液达到过饱和状态而结晶。用汽相扩散法生长蛋白质晶体时，主要通过将蛋白质溶液中的水分汽相扩散到沉淀剂中，最终使蛋白质溶液达到过饱和状态而结晶。
采用本实用新型批量法生长蛋白质晶体时，在散射池20与调节器10所形成的容室14中不加入沉淀剂；而用汽相扩散法生长蛋白质晶体时，在散射池20与调节器10所形成的容室14中要加入沉淀剂。这样就很方便地实现了在一个样品池中既可用批量法也可用汽相扩散法生长蛋白质晶体。
在盖子30密封性能良好的情况下，样品池内部是一个完全封闭的体系。在散射池20内放入蛋白质水溶液，在容室14中放入沉淀剂，在蛋白质水溶液和沉淀剂之间，由于化学势的不同，会发生水分的交换现象，即水分会通过汽相扩散从蛋白质溶液中扩散到沉淀剂中。沉淀剂吸附水分的能力越强(对于溶液指溶液的浓度越高)，则水分由蛋白质溶液中扩散到沉淀剂中的速度也就越快，即汽相扩散速度越快。通过改变沉淀剂溶液的浓度或改变固体沉淀剂粉末的种类，则可很容易地实现汽相扩散速度的调节。
其中所使用的沉淀剂为溶液或固体粉末。
本实用新型的优点是在此样品池中既可用批量法也可用汽相扩散法生长蛋白质晶体，这样可对二法生长蛋白质晶体的异同处进行研究；蛋白质样品所需量很少，只需几十微升，大大节约了摸索蛋白质晶体生长条件的成本；可以方便地调节汽相扩散的速度，满足汽相扩散速度对晶体生长影响的需求。
权利要求1.一种动态光散射用蛋白质晶体生长样品池，其特征在于，其中包括一调节器，该调节器为圆筒体，在该筒体的底部固接一下底，在该下底的中心位置开有一方孔，在该调节器的上端形成一开口；一散射池，该散射池为方形柱体中空，该散射池的下方密封，上方为开口状而形成一容器，该散射池的边长小于调节器的直径，该散射池的边长与调节器下底的中心方孔的边长相同，该散射池穿过调节器下底的中心方孔并与之固接；一上盖，该上盖螺接于调节器上端的开口。
2.根据权利要求1所述的动态光散射用蛋白质晶体生长样品池，其特征在于，其中散射池是由聚四氟乙烯制成。
3.根据权利要求1所述的动态光散射用蛋白质晶体生长样品池，其特征在于，其中调节器是由光学玻璃制成。
4.根据权利要求1所述的动态光散射用蛋白质晶体生长样品池，其特征在于，其中该散射池穿过调节器下底的中心方孔并与之固接的方式为粘接。
专利摘要一种动态光散射用蛋白质晶体生长样品池,其中包括:一调节器,该调节器为圆筒体,在该筒体的底部固接一下底,在该下底的中心位置开行一方孔,在该调节器的上端形成一开口;一散射池,该散射池为方形柱体中空,该散射池的下方密封,上方为开口状而形成一容器,该散射池的边长小于调节器的直径,该散射池的边长与调节器下底的中心方孔的边长相同,该散射池穿过调节器下底的中心方孔并与之固接;一上盖,该上盖螺接于调节器上端的开口。
文档编号G01N21/47GK2519274SQ0220431
公开日2002年10月30日 申请日期2002年1月25日 优先权日2002年1月25日
发明者戴国亮, 孙祉伟 申请人:中国科学院力学研究所