专利名称：能够产生磁场的探针台吸盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种半导体测试设备，具体涉及一种能够产生磁场的探针台吸盘。
背景技术：
探针台吸盘(chuck)的主要功能是放置晶圆(wafer)和吸附晶圆。由于吸盘里有加热丝，可以将晶圆加热到一定温度进行测试。但是，现有的探针台吸盘无法产生磁场。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能够产生磁场的探针台吸盘，它可以对处于磁场环境下的晶圆进行性能测试。为解决上述技术问题，本实用新型能够产生磁场的探针台吸盘的技术解决方案为包括吸盘，吸盘的下方设置有一线圈，线圈的中间固定设置有磁芯；线圈通过导线连接外部的电流源。所述磁芯的面积不小于待测晶圆上所有需测试芯片的面积；所述电流源的大小及电流方向通过测试仪控制，实现对所述线圈产生的磁场大小及方向的控制。所述待测晶圆的面积不小于3寸。所述磁芯的面积与待测晶圆上最大芯片的面积相同；所述线圈的移动通过测试仪控制，使线圈移动至所需测试的芯片下方。本实用新型可以达到的技术效果是本实用新型能够为晶圆级芯片的测试提供磁场，从而对处于磁场环境下的晶圆进行性能测试。
以下结合附图
和具体实施方式
对本实用新型作进一步详细的说明图I是本实用新型能够产生磁场的探针台吸盘的第一实施例的示意图；图2是本实用新型的第二实施例的示意图。图中附图标记说明I为吸盘， 2为线圈，3为磁芯， 10为待测晶圆。
具体实施方式
本实用新型能够产生磁场的探针台吸盘，包括探针台吸盘1，吸盘I的下方设置有一线圈2，线圈2的中间固定设置有磁芯3 ;线圈2通过导线连接外部的电流源；线圈2的直径与磁芯3面积相匹配；如图I所示为本实用新型的第一实施例，磁芯3的面积不小于待测晶圆10上所有需测试芯片的面积；线圈2产生的磁力线方向垂直通过待测晶圆10 ;通过测试仪控制电流源的大小及电流方向，能够控制线圈2产生的磁场大小及方向；待测晶圆10的面积为3寸以上。如图2所示为本实用新型的第二实施例，磁芯3的面积与待测晶圆10上最大芯片的面积相同；线圈2产生的磁力线方向垂直通过待测晶圆10 ;通过测试仪控制线圈2移动，B 使线圈2移动至所需测试的芯片下方。使用时，将待测晶圆10放置于吸盘I上，由于线圈2能够为晶圆级芯片的测试提供磁�。纯啥源τ诖懦』肪诚碌木г步行阅懿馐浴�
权利要求1.ー种能够产生磁场的探针台吸盘，其特征在于包括吸盘，吸盘的下方设置有ー线圈，线圈的中间固定设置有磁芯；线圈通过导线连接外部的电流源。
2.根据权利要求I所述的能够产生磁场的探针台吸盘，其特征在于所述磁芯的面积不小于待测晶圆上所有需测试芯片的面积；所述电流源的大小及电流方向通过测试仪控制，实现对所述线圈产生的磁场大小及方向的控制。
3.根据权利要求2所述的能够产生磁场的探针台吸盘，其特征在于所述待测晶圆的面积不小于3寸。
4.根据权利要求I所述的能够产生磁场的探针台吸盘，其特征在于所述磁芯的面积与待测晶圆上最大芯片的面积相同；所述线圈的移动通过测试仪控制，使线圈移动至所需测试的芯片下方。
专利摘要本实用新型公开了一种能够产生磁场的探针台吸盘，包括吸盘，吸盘的下方设置有一线圈，线圈的中间固定设置有磁芯；线圈通过导线连接外部的电流源。所述磁芯的面积不小于待测晶圆上所有需测试芯片的面积；所述电流源的大小及电流方向通过测试仪控制，实现对所述线圈产生的磁场大小及方向的控制。或者所述磁芯的面积与待测晶圆上最大芯片的面积相同；所述线圈的移动通过测试仪控制，使线圈移动至所需测试的芯片下方。本实用新型能够为晶圆级芯片的测试提供磁�。佣源τ诖懦』肪诚碌木г步行阅懿馐�。
文档编号G01R1/02GK202372528SQ201120530728
公开日2012年8月8日 申请日期2011年12月16日 优先权日2011年12月16日
发明者谢晋春 申请人:上海华虹Nec电子有限公司
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
