亚星游戏官网-www.yaxin868.com

专利名称：同轴调节方法
同轴调节方法
技术领域：
本发明涉及一种同轴调节方法，特别是涉及一种旋转体之间的同轴调节方法。背景技术：
注射液微小杂质颗粒的检测是整个医药包装、灌装流水线质量检测中最困难的课题之一。注射液中的微粒一般有:纤维、玻璃屑、颗粒、橡皮屑及毛发等。注射液生产时需对此类杂质进行检测，通常采用的检测设备是智能灯检机，其是采用光源照射检测瓶，利用CCD相机对注射液瓶内注射液进行拍摄，将拍摄到的图像传送给计算机进行分析处理。通过分析拍摄到的图像，判断其是否质量合格，如果是不合格产品待其到达输出单元时将其剔除。现有的灯检机中，装有注射液的药瓶会按固定间距排列好输送到检测平台进行检测。进入检测平台后，注射液瓶需随检测平台的大转盘做间歇转动。同时，在注射液瓶到达旋转区时，注射液瓶需要产生高速自转。智能灯检机是通过机械手和旋转托盘夹持注射液瓶，然后三者同步旋转。但注射液瓶高速自转时，若机械手和旋转托盘的同轴度不高而引起的晃动，就会导致注射液瓶的损坏以及其他不良问题。而现在的同轴调节方法既麻烦又复杂。

发明内容基于此，有必要提供一种方便调节同轴度的同轴调节方法。一种同轴调节方法，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体和第二旋转体，所述同轴调节方法包括如下步骤:步骤SI，在所述第一旋转体上固定一伸向所述第二旋转体的调整块，使得所述调整块在所述第一旋转体带动下做画圈式旋转；步骤S2，在所述第二旋转体面向所述第一旋转体的表面上吸附一个圆柱形磁铁，且所述磁铁位于所述调整块画圈旋转时形成的圆柱形空间内；步骤S3，旋转所述第一旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况；步骤S4，停止旋转所述第一旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调节所述调整块在所述第一旋转体上的位置，使得所述调整块旋转时画圈的内径刚好与所述磁铁的外径相同；步骤S5，旋转所述第二旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况；步骤S6，停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。一优选实施例中，当所述第二旋转体与所述磁铁不能产生吸附力时，先在所述第二旋转体上设置一能与所述磁铁产生吸附力的磁性体，然后放置所述磁铁。

一优选实施例中，所述步骤4是通过多次旋转所述第一旋转体，并对所述调整块的位置调整多次来达到。一优选实施例中，所述步骤6是通过多次旋转所述第二旋转体和多次调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置来达到。一优选实施例中，所述步骤6改为:停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第二旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。上述同轴调整方法，通过简单的调整块和圆柱形磁铁的相对旋转关系就可以方便精确的调节第一旋转体和第二旋转体的同轴度，结构简单，操作方便。还由于磁铁是吸附在第二旋转体上的，所以不会因为旋转时的碰撞而被撞飞。而且由于磁铁和第二旋转体之间的吸附力，使得不管第一旋转体和第二旋转体是横着摆放的，还是竖着摆放的，甚至是斜着摆放的，都适用，因为磁铁因为吸附力即在碰撞时的移动范围不大，而且不会掉下来。

图1为一实施方式的第一旋转体和第二旋转体进行同轴调节时的结构示意图；图2为一实施方式的第一旋转体和第二旋转体进行同轴调节的方法流程图。
具体实施方式为了解决两个旋转体同轴度难以调节的问题，提出了一种简单方便的同轴调节方法。如图1所述，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体10和第二旋转体20。本实施方式中，第一旋转体10为机械手，第二旋转体20为旋转托盘，两者相对设置，用于夹持待测注射液瓶，并带动注射液瓶同步旋转。请同时参阅图2，其为第一旋转体10和第二旋转体20进行同轴调节的方法流程图，包括如下步骤:步骤SI，在第一旋转体10上固定一伸向第二旋转体20的调整块30，使得调整块30在第一旋转体10带动下做画圈式旋转。调整块30可以是条状、块状或者片状等。步骤S2，在第二旋转体20面向第一旋转体10的表面上吸附一个圆柱形磁铁40，且磁铁40位于调整块30画圈旋转时形成的圆柱形空间内。若第二旋转体20为非磁吸附性材料，则可以先在第二旋转体20面向第一旋转体10的表面上固定一个能与磁铁40吸附的磁性体50。本实施方式中，磁性体50为一套接在第二旋转体20上的套筒。上述两个步骤没有固定顺序，只需安置好调整块30和磁铁40即可。步骤S3，旋转第一旋转体10，获得磁铁40与调整块30距离的变化情况。此时，由于调整块30的轴心线不会刚好与圆柱形磁铁40的轴心线重叠，那么调整块30就会有时距离磁铁40较远，有时又会碰到磁铁40。当碰到磁铁40时，磁铁40会受力移动，但由于磁铁是吸附在第二旋转体20上的，所以移动时会受到一定的阻力，从而保证磁铁40不会因为调整块30较高速的旋转而被撞飞。步骤S4，停止旋转第一旋转体10，根据磁铁40与调整块30距离的变化情况，调节调整块30在第一旋转体10上的位置，使得调整块30旋转时画圈的内径刚好与圆柱形磁铁40的外径相同。即调整块30的内壁刚好挨着圆柱形磁铁40的外壁旋转。此步骤通常需要多次旋转第一旋转体10，并对调整块30的位置调整多次来达到。本实施方式中，调整块30是用过螺丝60固定在第一旋转体10上，所以可以通过调节螺丝60来调整调整块30的位置，即调节调整块30的旋转内径。步骤S5，旋转第二旋转体20，获得磁铁40与调整块30距离的变化情况。此时，由于第一旋转体10和第二旋转体20还不同轴，那么磁铁40旋转时就会有时远离调整块30，有时碰到调整块30。步骤S6，停止旋转第二旋转体20，根据磁铁40与调整块30距离的变化情况，调整第一旋转体10以及磁铁40的位置，使得第二旋转体20带动磁铁40旋转时，磁铁40的外壁一直挨着调整块30的内壁旋转。此时，第一旋转体10和第二旋转体20也就同轴了。此步骤中通常需要多次旋转第二旋转体20和多次调整第一旋转体10以及磁铁40的位置来达到。在另一实施例中，上述步骤S6还可以是，停止旋转第二旋转体20，根据磁铁40与调整块30距离的变化情况，调整第二旋转体20以及磁铁40的位置，使得第二旋转体20带动磁铁40旋转时，磁铁40的外壁一直挨着调整块30的内壁旋转。此步骤中通常需要多次旋转第二旋转体20和多次调整第二旋转体10及磁铁40的位置来达到。上述同轴调整方法，通过简单的调整块30和圆柱形磁铁40的相对旋转关系就可以方便精确的调节第一旋转体10和第二旋转体20的同轴度，结构简单，操作方便。还由于磁铁40是吸附在第二旋转体20上的，所以不会因为旋转时的碰撞而被撞飞。而且由于磁铁40和第二旋转体20之间的吸附力，使得不管第一旋转体10和第二旋转体20是横着摆放的，还是竖着摆放的，甚至是斜着摆放的，都适用，因为磁铁40因为吸附力即在碰撞时的移动范围不大，而且不会掉下来。以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求
1.一种同轴调节方法，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体和第二旋转体，其特征在于，所述同轴调节方法包括如下步骤: 步骤SI，在所述第一旋转体上固定一伸向所述第二旋转体的调整块，使得所述调整块在所述第一旋转体带动下做画圈式旋转； 步骤S2，在所述第二旋转体面向所述第一旋转体的表面上吸附一个圆柱形磁铁，且所述磁铁位于所述调整块画圈旋转时形成的圆柱形空间内； 步骤S3，旋转所述第一旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况； 步骤S4，停止旋转所述第一旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调节所述调整块在所述第一旋转体上的位置，使得所述调整块旋转时画圈的内径刚好与所述磁铁的外径相同； 步骤S5，旋转所述第二旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况； 步骤S6，停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。
2.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，当所述第二旋转体与所述磁铁不能产生吸附力时，先在所述第二旋转体上设置一能与所述磁铁产生吸附力的磁性体，然后放置所述磁铁。
3.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤4是通过多次旋转所述第一旋转体，并对所述调整块的位置调整多次来达到。
4.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤6是通过多次旋转所述第二旋转体和多次调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置来达到。
5.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤6改为:停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第二旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。
6.根据权利要求5所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤6是通过多次旋转所述第二旋转体和多次调整所述第二旋转体以及所述磁铁的位置来达到。
全文摘要
一种同轴调节方法，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体和第二旋转体。步骤包括在第一旋转体上固定一伸向第二旋转体的调整块，使得调整块在第一旋转体带动下做画圈式旋转；在第二旋转体面向第一旋转体的表面上吸附一个圆柱形磁铁，且磁铁位于调整块画圈旋转时形成的圆柱形空间内；旋转第一旋转体；调节调整块在第一旋转体上的位置，使得调整块旋转时画圈的内径刚好与磁铁的外径相同；旋转述第二旋转体；调整第一旋转体以及磁铁的位置，使得第二旋转体带动磁铁旋转时，磁铁的外壁一直挨着调整块的内壁旋转。上述同轴调节方法，采用元件少，结构简单，操作简便。
文档编号G01N21/90GK103115925SQ201110365859
公开日2013年5月22日 申请日期2011年11月17日 优先权日2011年11月17日
发明者卢宗庆, 张家访, 王肇, 程俊, 姜军 申请人:中国科学院深圳先进技术研究院