专利名称：覆金属ito膜ito方阻的测试方法
技术领域：
本发明涉及覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，属于触控面板技术研究领域，尤指覆金属膜材料中的ITO的测试方法探究。
背景技术：
目前触摸屏行业使用的原材料有覆金属ITO导电膜，结构为PET或玻璃基材上溅镀ITO透明导电材料，再溅镀铜镍等金属材料，以增加成品触控面板边框引线的导电性。但原料中的ITO因为在金属层下方，无法直接测量方阻。本发明是用金属选择性蚀刻液蚀刻掉金属层，留下ITO层，再测试材料底层的ITO方阻，以保证原材料的质量可靠性。
发明内容
技术目的本发明是要提供覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，解决覆金属原料中ITO方阻的测试方法，从而保证原材料的质量可靠性。技术方案本发明公开覆金属ITO膜方阻的测试方法，包括如下步骤
步骤一取大小适中的覆金属ITO膜样品；
步骤二 选择合适的金属选择性蚀刻液；
步骤三将样品投入该蚀刻液中，蚀刻掉金属层，留下ITO层；
步骤四取出上述蚀刻掉金属层后ITO膜，水洗干燥后测量ITO的9点方阻；
步骤五与原材料厂家提供的ITO方阻进行比对。有益效果本发明公开了覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，通过该方法可判断覆金属ITO膜ITO层的方阻大�。佣卸显牧系闹柿靠煽啃�。
图1 :覆金属ITO膜剖面图；图2 :蚀刻掉金属层后ITO膜剖面 简单符号说明1、基材；2、ITO层；3、金属层。
具体实施例方式下面是本发明的具体实施例来进一步描述
本发明公开覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，包括如下步骤
步骤一取大小适中的覆金属ITO膜样品；
步骤二 选择合适的金属选择性蚀刻液；
步骤三将样品投入该蚀刻液中，蚀刻掉金属层，留下ITO层；
步骤四取出上述蚀刻掉金属层后ITO膜，水洗干燥后测量ITO的9点方阻；
步骤五与原材料厂家提供的ITO方阻进行比对。
实施例
步骤一取一片覆金属(Cu-Ni) ITO膜，如图1 ;
步骤二 用胶带粘贴到卷对卷黄光工艺的生产线；
步骤三用金属选择性蚀刻液将铜镍金属层3蚀刻掉，留下ITO层2 ;
步骤四取出上述蚀刻掉金属层后ITO膜，如图2，水洗干燥后用方阻仪测量ITO的9点方阻值为
158、162、157、157、159、157、154、154、153 ( Ω/ □)；
步骤五与原材料厂家提供的ITO方阻进行比对(原厂标准150±30Ω/ □)，
原厂 ITO 测试的 9 点方阻值为 146、152、150、152、155、160、153、155、155 ( Ω/ □)；对比步骤四和步骤五，两者测试结果相近，说明覆金属ITO膜ITO方阻在标准要求范围内，原材料方阻满足使用要求，合格。
权利要求
1.覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，其特征包括如下步骤 步骤一取大小适中的覆金属ITO膜样品； 步骤二 选择合适的金属选择性蚀刻液； 步骤三将样品投入该蚀刻液中，蚀刻掉金属层，留下ITO层； 步骤四取出上述蚀刻掉金属层后ITO膜，水洗干燥后测量ITO的9点方阻； 步骤五与原材料厂家提供的ITO方阻进行比对。
2.如权利要求1所述的覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，其特征在于 步骤二中选择合适的金属选择性蚀刻液，此蚀刻液只蚀刻金属，不蚀刻IT0，即蚀刻掉金属层，留下ITO层。
3.如权利要求1所述的覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，其特征在于 步骤四测试结果与步骤五ITO方阻比对，来判定覆金属ITO膜ITO方阻是否符合标准要求。
全文摘要
本发明涉及覆金属ITO膜ITO方阻的测试方法，属于触控面板技术研究领域，尤指覆金属膜材料中的ITO的测试方法探究。本发明是用金属选择性蚀刻液蚀刻掉金属层后，留下ITO层，再测试材料的ITO方阻，并与原材料厂家提供的ITO方阻进行比对，来判定覆金属ITO膜ITO方阻是否符合标准要求，保证原材料的质量可靠性。
文档编号G01R27/02GK103018563SQ201210534149
公开日2013年4月3日 申请日期2012年12月12日 优先权日2012年12月12日
发明者张新玲, 王连荣, 唐毅晟, 张滨, 史小锋 申请人:烟台正�？萍加邢薰�
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