专利名称：用gtem小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法
技术领域：
本发明涉及一种GTEM小室的应用，尤其涉及一种用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法。
背景技术：
在传统的反向散射截面的测试方法中，需要将被测散射体放置在自由空间或特制的暗室中，同时需用标定的参考散射体以及其他辅助设备，测试方法复杂。这些测试环境和测试方法或者不可避免的受电磁干扰，使得测量误差比较大；或者费时费力、成本高、且占地面积大。因此，需要一种相对简单、廉价的测试设备，用GTEM小室进行电小尺寸散射体的最大反向散射截面测试是一个非�：鲜实难≡�。与自由空间、电波暗室、半电波暗室比较， 用GTEM小室测试的主要优点为能够较好的屏蔽外界电磁干扰，提供准确的电场强度值，设备成本低廉、占地面积小，且本发明提供的测试方法操作简单、直观方便，提供的计算公式验证严谨，结果准确。
发明内容
本发明的目的是提供一种操作简单、成本低廉的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法。本发明的目的是通过以下技术方案实现的本发明的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，包括步骤A.连接GTEM小室前端口和矢量网络分析仪；B.在所选定的频率上，测量得到GTEM小室在没有放置待测散射体时的S11值；C.将待测散射体摆放在GTEM小室中的特制非金属转台上；D.在所选定的频率上，测量得到GTEM小室在放置待测散射体时的S' n值；E.用本方法所提出的公式1计算出此待测电小尺寸散射体的反向散射截面。由上述本发明提供的技术方案可以看出，本发明所述的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，在得到GTEM小室前端口在未放置待测散射体时的S11,以及已放置待测散射体时的S' n之后，用本发明所提出的公式进行计算。操作简单、设备成本低廉。
图1为本发明中GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的布置示意图；图2为本发明中GTEM小室坐标及待测散射体位置示意图；图3为本发明中GTEM小室、待测散射体和测试仪器连接示意图；图中1、GTEM小室，2、中板，3、底板，4、端口，5、转台，6、待测散射体(EUT)，7、矢量网络分析仪。
具体实施例方式本发明的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，其较佳的具体实施方式
如图1、图2、图3所示，包括步骤A.如图3所示，连接GTEM小室前端口和矢量网络分析仪7 ；B.在所选定的频率上，测量得到GTEM小室在没有放置待测散射体时的S11值；C.如图1所示，将待测散射体6摆放在GTEM小室中的特制非金属转台上，位置如图2所示；D.在所选定的频率上，测量得到GTEM小室在放置待测散射体时的S' n值；E.用本方法所提出的公式1计算出此待测电小尺寸散射体的反向散射截面。所述的待测散射体满足所述GTEM小室测试过程中电小尺寸的要求。所述的待测散射体放置在所述GTEM小室的中板2与底板3之间的1/3 2/3区域内。根据所得的测试结果，用本发明所提出的计算公式计算反向散射截面
权利要求
1.一种用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，其特征在于，包括步骤A.连接GTEM小室前端口和矢量网络分析仪；B.在所选定的频率上，测量得到GTEM小室在没有放置待测散射体时的S11值；C.将待测散射体摆放在GTEM小室中的特制非金属转台上；D.在所选定的频率上，测量得到GTEM小室在放置待测散射体时的S'η值； Ε.用本方法所提出的公式1计算出此待测电小尺寸散射体的反向散射截面。
2.根据权利要求1所述的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，其特征在于，所述的待测散射体放置在所述GTEM小室的中板与底板之间的1/3 2/3区域内。
3.根据权利要求1所述的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，其特征在于，特定转台是由非金属材料构成的，它可以沿Χ、Υ、Ζ轴做360度旋转，通过旋转，可以测试待测散射体任意方向的反向散射截面。
4.根据权利要求1所述的用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，其特征在于，得到待测散射体的返回功率后，通过本方法给出的公式1计算反向散射截面
全文摘要
本发明公开了一种用GTEM小室测试电小尺寸散射体反向散射截面的方法，首先将待测电小尺寸散射体6摆放在GTEM小室的特制非金属转台5上；GTEM小室的前端口4与矢量网络分析仪7连接；通过矢量网络分析仪得到GTEM小室前端口返回电压和入射电压和比值；最后通过本方法提出的公式计算出散射体的反向散射截面。本方法操作简单，成本低廉。
文档编号G01R29/08GK102565552SQ20121000752
公开日2012年7月11日 申请日期2012年1月11日 优先权日2012年1月11日
发明者刘晓阳, 李书芳, 洪卫军, 王明阳, 邢曙光, 陈乔, 陈志雨 申请人:北京邮电大学
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