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专利名称：两光程比色皿结构的制作方法
技术领域：
本发明涉及细胞培养装置的技术领域，具体为两光程比色皿结构。
背景技术：
比色皿，又名吸收池，样品池，其用来装参比液、样品液，配套在光谱分析仪器上，对物质进行定量、定性分析，广泛应用于化工、冶金、医疗，医药、食品、环保、电厂、水厂、石油等行业、部门和大专院校、科研单位测试、化验使用。现有的10丽标准比色皿、2丽标准比色皿，其材质为PS环保材料，比色皿本体的腔体内自下而上为相同的存放液体空间，当需要分别分析一种液体在两种光程下的数据时，需要分别将液体置于10丽标准比色皿、2丽标准比色皿然后进行分析，其导致分析步骤复杂，试验的时间长，且单一光程的比色皿的通用性差。

发明内容
针对上述问题，本发明提供了两光程比色皿结构，其可在同一比色皿中完成10丽光程、2丽光程的数据分析，使得比色皿的通用性好，且分析步骤简单，缩短了试验时间。两光程比色皿结构，其技术方案是这样的其包括比色皿本体、上盖，所述上盖盖装于所述比色皿本体的内缘面，其特征在于所述比色皿本体的腔体为下部窄条结构、上部宽口结构，所述下部窄条结构的上端平滑过渡至所述上部宽口结构的下端，所述下部窄条结构内腔的宽度为1(MM、厚度为2丽，所述上部宽口结构的内腔厚度为10丽、宽度为10MM，所述比色皿本体的下部窄条结构的厚度2MM所对应的面为通光面，所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构，所述透光面的高度高于所述下部窄条结构的高度、并延伸至上部宽口结构，所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。使用本发明的结构后，由于比色皿本体的腔体为下部窄条结构、上部宽口结构，所述下部窄条结构的上端平滑过渡至所述上部宽口结构的下端，且所述下部窄条结构内腔的宽度为10丽、厚度为2丽，所述上部宽口结构的内腔厚度为10丽、宽度为10丽，液体倒入比色皿本体的腔体后，进入到下部窄条结构且使得达到足够的液面高度，其下部窄条结构的光程为2丽，上部宽口结构的光程为10丽，其可在同一比色皿中完成10丽光程、2丽光程的数据分析，使得比色皿的通用性好，且分析步骤简单，缩短了试验时间。


图I为本发明的立体图结构示意 图2为图I的比色皿本体的A-A剖视图结构示意 图3为图I的比色皿本体的B-B剖视图结构示意图。
具体实施方式
见图I、图2、图3，其包括比色皿本体I、上盖2，上盖2盖装于比色皿本体I的内缘面，比色皿本体I的腔体为下部窄条结构3、上部宽口结构4，下部窄条结构3的上端平滑过渡至上部宽口结构4的下端，下部窄条结构3内腔的宽度为10丽、厚度为2丽，上部宽口结构4的内腔厚度为10丽、宽度为10MM，比色皿本体I的下部窄条结构3的厚度2丽所对应 的面为通光面5，比色皿本体I的通光面5的透光面6为内凹的透明结构，透光面6的高度高于下部窄条结构3的高度、并延伸至上部宽口结构4，上盖2的和比色皿本体I的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构7。比色皿本体I的正面还设置有容积刻度线8。
权利要求
1.两光程比色皿结构，其包括比色皿本体、上盖，所述上盖盖装于所述比色皿本体的内缘面，其特征在于所述比色皿本体的腔体为下部窄条结构、上部宽口结构，所述下部窄条结构的上端平滑过渡至所述上部宽口结构的下端，所述下部窄条结构内腔的宽度为10MM、厚度为2丽，所述上部宽口结构的内腔厚度为10丽、宽度为10MM，所述比色皿本体的下部窄条结构的厚度2MM所对应的面为通光面，所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构，所述透光面的高度高于所述下部窄条结构的高度、并延伸至上部宽口结构，所述上盖的和所述比色皿本体的接触面设置有至少两层凹凸槽封闭结构。
全文摘要
本发明提供了两光程比色皿结构，其可在同一比色皿中完成10MM光程、2MM光程的数据分析，使得比色皿的通用性好，且分析步骤简单，缩短了试验时间。其包括比色皿本体、上盖，所述上盖盖装于所述比色皿本体的內缘面，其特征在于所述比色皿本体的腔体为下部窄条结构、上部宽口结构，所述下部窄条结构的上端平滑过渡至所述上部宽口结构的下端，所述下部窄条结构内腔的宽度为10MM、厚度为2MM，所述上部宽口结构的内腔厚度为10MM、宽度为10MM，所述比色皿本体的下部窄条结构的厚度2MM所对应的面为通光面，所述比色皿本体的通光面的透光面为内凹的透明结构，所述透光面的高度高于所述下部窄条结构的高度、并延伸至上部宽口结构。
文档编号G01N21/03GK102879333SQ20121036303
公开日2013年1月16日 申请日期2012年9月26日 优先权日2012年9月26日
发明者夏远富 申请人:无锡耐思生物科技有限公司