碘化铯闪烁体屏的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种碘化铯闪烁体屏，包括：反射基板、沉积在所述反射基板上表面的碘化铯闪烁体层、压合在所述碘化铯闪烁体层上表面的防水透明薄膜、以及粘接在所述反射基板下表面的衬底层，所述碘化铯闪烁体层的四周边缘设置有密封胶，所述密封胶的下表面与所述反射基板相贴合，上表面与所述防水透明薄膜相贴合。通过上述方式，本发明能够实现阻水防水的效果，提高刚性，大大降低闪烁体的封装成本，提高封装效率。
【专利说明】碘化铯闪烁体屏
【技术领域】
[0001]本发明涉及功能薄膜材料的【技术领域】，更具体地说，本发明涉及一种碘化铯闪烁体屏。
【背景技术】
[0002]无机闪烁体(inorganic scintillator)在福射探测中起着非常重要的作用，广泛应用于影像核医学、核物理、高能物理、工业CT、油井勘探和安全检查等领域。目前研究和应用最多的是无机闪烁体，而这其中具有高亮度、高分辨率的碘化铯闪烁体应用最为广泛。但是碘化铯材料为吸湿性材料，当其吸收空气中的水分而潮解时，会使得闪烁体的特性，特别是图像分辨率大大降低，因此，如何有效的封装闪烁体更尤为重要。而不同的基板其封装的工艺也都不相同。
[0003]目前，作为代表性的碘化铯闪烁体，是以碳材料为基板来生长碘化铯闪烁体，封装方式为浜松光子学株式会社的镀膜封装方法，如专利为W099/66348、W002/23219以及JP170092/1998所公布的封装方法。该碘化铯闪烁体封装方式首先通过CVD法在碘化铯表面镀一层厚为IOum的聚对二甲苯层,然后派射一层200nm的SiO2膜,最后CVD法形成一层IOum聚对二甲苯层。
[0004]然而，利用CVD法蒸镀聚对二甲苯膜及溅射SiO2层作为用来使闪烁体免受湿气影响的防湿屏障，最少需要两种设备即CVD设备和溅射设备来完成整个封装过程，可见，这种封装方法存在流程复杂、生产成本高的问题。同时，利用蒸镀的方法来封装，必需加工掩膜板来保护不需要被覆盖的地方，如连接脚等，这样大大增加了工艺的复杂度。而且通过CVD方法形成聚对二甲苯的有机膜保护层的速度大约为100至2000埃/分钟，因此形成20um的闪烁体保护层需要2000分钟至100分钟，这种现有的封装技术存在生产率较低的问题。
【发明内容】
[0005]本发明主要解决的技术问题是提供一种碘化铯闪烁体屏，能够实现阻水防水的效果，提高刚性，还可以大大降低闪烁体的封装成本，提高封装效率。
[0006]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种碘化铯闪烁体屏，包括:反射基板、沉积在所述反射基板上表面的碘化铯闪烁体层、压合在所述碘化铯闪烁体层上表面的防水透明薄膜、以及粘接在所述反射基板下表面的衬底层，所述碘化铯闪烁体层的四周边缘设置有密封胶，所述密封胶的下表面与所述反射基板相贴合，上表面与所述防水透明薄膜相贴合。
[0007]在本发明的一个较佳实施例中，所述反射基板的材质为金属材料或无机材料。
[0008]在本发明的一个较佳实施例中，所述反射基板为铝板。
[0009]在本发明的一个较佳实施例中，所述碘化铯闪烁体层的厚度为0.2-0.8 mm。
[0010]在本发明的一个较佳实施例中，所述防水透明薄膜的材质为高分子材料或无机材料。[0011]在本发明的一个较佳实施例中，所述衬底层为高分子塑料板、碳制基板或者轻金属板。
[0012]本发明的有益效果是:采用可见光反射率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于
0.lg/m2*day-\ X射线吸收率小于等于5%的材料作为高反射基板材料，同时采用可见光透过率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于0.lg/m^day-1,的防水透明薄膜，将X射线转化为可见光的掺杂碘化铊的碘化铯厚膜作为碘化铯闪烁体层，并在碘化铯闪烁体层的四周边缘设置水蒸气透过率小于等于0.lg/m^day-1的密封胶，在高反射基板的下面粘接X射线吸收率小于等于5%的衬底层，能够实现碘化铯闪烁体屏阻水防水的效果，提高其刚性，还可以大大降低闪烁体的封装成本，提高封装效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1为本发明一种碘化铯闪烁体屏一较佳实施例的结构示意图；
附图中各部件的标记如下:1、防水透明薄膜，2、碘化铯闪烁体层，3、密封胶，4、反射基板，5、衬底层。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0015]请参阅图1，本发明实施例包括:
一种碘化铯闪烁体屏，包括:反射基板4、沉积在所述反射基板4上表面的碘化铯闪烁体层2、压合在所述碘化铯闪烁体层2上表面的防水透明薄膜1、以及粘接在所述反射基板4下表面的衬底层5，所述碘化铯闪烁体层2的四周边缘设置有密封胶3，所述密封胶3的下表面与所述反射基板4相贴合，上表面与所述防水透明薄膜I相贴合。
[0016]其中，所述反射基板4的材质为金属材料或无机材料，可见光反射率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于0.lg/n^day'X射线吸收率小于等于5%。在本实施例中，优选为高反射铝板，其厚度为0.4mm,反射率为90%。
[0017]所述碘化铯闪烁体层2的厚度为0.2-0.8mm，是将X射线转化为可见光的掺杂碘化铊的碘化铯厚膜。
[0018]所述密封胶3的水蒸气透过率小于等于0.1g/m2.day-10
[0019]所述防水透明薄膜I的材质为高分子材料或无机材料。该防水透明薄膜I的可见光透过率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于0.1gAi2May'位于碘化铯闪烁体屏的最上层，其主要用于保护碘化铯闪烁体屏不被空气中的水气潮解。
[0020]所述衬底层5为高分子塑料板、碳制基板或者轻金属板，优选为碳纤维板或塑料板。该衬底层5的X射线吸收率小于等于5%，主要是增加整个碘化铯闪烁体屏的刚性，让其不易形变与损坏。
[0021]封装时，先在所述反射基板4的上表面，利用真空蒸镀方式，生长一层碘化铯闪烁体层2 ;然后，在所述碘化铯闪烁体层2的四周边缘放置密封胶3，使密封胶3的下表面与所述反射基板4的上表面相贴合；接着，在真空环境下，在所述碘化铯闪烁体层2的上表面压合一层防水透明薄膜1，用于保护碘化铯闪烁体屏不被空气中的水气潮解；然后，固化或者热压密封胶3，使密封胶3的下表面与所述反射基板4的上表面相贴合，所述密封胶3的上表面与所述防水透明薄膜I相贴合，所述密封胶3的四周均与所述碘化铯闪烁体层2相贴合；最后，在所述反射基板4的下表面粘接衬底层5，来增加整个碘化铯闪烁体屏的刚性，让其不易形变与损坏。
[0022]本发明揭示了一种碘化铯闪烁体屏，采用可见光反射率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于0.lg/m2*day' X射线吸收率小于等于5%的材料作为高反射基板材料，同时采用可见光透过率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于0.lg/m^day-1,的防水透明薄膜，将X射线转化为可见光的掺杂碘化铊的碘化铯厚膜作为碘化铯闪烁体层，并在碘化铯闪烁体层的四周边缘设置水蒸气透过率小于等于0.1gAi2May-1的密封胶，在高反射基板的下面粘接X射线吸收率小于等于5%的衬底层，能够实现碘化铯闪烁体屏阻水防水的效果，提高其刚性，还可以大大降低闪烁体的封装成本，提高封装效率。
[0023]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的【技术领域】，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种碘化铯闪烁体屏，其特征在于，包括:反射基板、沉积在所述反射基板上表面的碘化铯闪烁体层、压合在所述碘化铯闪烁体层上表面的防水透明薄膜、以及粘接在所述反射基板下表面的衬底层，所述碘化铯闪烁体层的四周边缘设置有密封胶，所述密封胶的下表面与所述反射基板相贴合，上表面与所述防水透明薄膜相贴合。
2.根据权利要求1所述的碘化铯闪烁体屏，其特征在于，所述反射基板的材质为金属材料或无机材料。
3.根据权利要求2所述的碘化铯闪烁体屏，其特征在于，所述反射基板为铝板。
4.根据权利要求1所述的碘化铯闪烁体屏，其特征在于，所述碘化铯闪烁体层的厚度为 0.2-0.8 mm η
5.根据权利要求1所述的碘化铯闪烁体屏，其特征在于，所述防水透明薄膜的材质为高分子材料或无机材料。
6.根据权利要求1所述的碘化铯闪烁体屏，其特征在于，所述衬底层为高分子塑料板、碳制基板或者轻金属板。
【文档编号】G01T1/20GK103646682SQ201310568348
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年11月13日 优先权日:2013年11月13日
【发明者】范波, 徐硕, 李明 申请人:江苏龙信电子科技有限公司
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
